氮化鉻

采用陰極電弧等離子體沉積技術。陰極電弧等離子體沉積是相對較新的薄膜沉積技術，它在許多方面類似于離子鍍技術。其優點：在發射的粒子流中離化率高，而且這些離化的離子具有較高的動能（40-100eV）。許多離子束沉積的優點，如提粘著力，增加態密度、對化合物膜形成具有高反應率等優點在陰極電弧等離子體沉積中均有所體現。而陰極電弧等離子體沉積又具有自己一些獨特優點，如可在較多復雜形狀基片上進行沉積，沉積率高，涂層均勻性好，基片溫度低，易于制備理想化學配比的化合物或合金。

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